|
1996-05-10 ArtNo.5992
◆＜星＞３Ｍ、ＩＤＳ補助でデザイン・センター設置準備
【シンガポール】米国拠点の3Ｍ社は発明開発スキーム(IDS)下の政府補助を受けたことからシンガポールにデザイン・センターを設ける計画を実行に移す考えだ。
3Ｍ社のDenny Aeschliman応用技術担当上級課長が8日催されたＩＤＳ補助認定証受領式の席上語ったところによると、当地における集積回路(IC)包装技術やロー・コスト・コネクターの研究開発は、モトローラーやヒューレット・パッカード等の当地顧客とのより密接な関係の構築に役立つが、政府補助がなければ、当地にデザイン・センターを設ける条件は依然不十分だったと言う。
米国光学材料会社II－VIのアハマド・マガ重役(MD)も、「ＩＤＳ抜きでは我が社の小規模な赤外線プロジェクトの目標達成はおぼつかなかった」と語った。同社は新技術を用いて中国蘇州で製造した光学製品にシンガポールで表面仕上げ施す計画だ。(ST:5/9)
|