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2005-05-27 ArtNo.35606
◆インテル、サーキット・ラブ併設
【バンガロール】指導的な半導体チップ・メーカー、Intelは、カルナタカ州Bangaloreに設けた基礎技術開発施設(nascent technology development facility)の重要使命を補完するため、回路研究施設(circuit research lab)を併設した。
 エコノミック・タイムズが5月25日報じたところによると、インテルが拠点にする米国オレゴン州(インテルの技術拠点)以外にこの種の施設が設けられるのは、今回初めてのこと。インテルはインドにおける『Fellow in Residence』プログラムも開始した。
 昨年、Intel India Development Center (IIDC)にサーキット・プロットタイピングに照準を合わせたマイクロプロセッサー・テクノロジー・ラブが併設されたが、同ラブは今や回路研究(circuit research)も手がけることになった。高性能でより小型な半導体を作製するための持続的プロセス“回路研究”はインテルの中核技術を成している。
 IIDCではこの他、次世代Zeonプロセッサーやモバイル・プラットフォーム用チップ・セットの開発が手がけられる。
 Intel Oregonシステム・テクノロー・ラブのディレクターも務めるインテル・フェロー、Raj Yavatkar氏は、「設置されて間もないIIDCに回路研究ラブが併設されるのは、驚異的なこと」と語った。IIDC『Fellow in Residence』プログラムの下、向こう1年間にわたりインテル・フェローの育成に努めることになったYavatkar氏によると、現在、インテルは8万人以上のエンジニアを擁するが、インテル・フェローを務めているのはこの内50人ほどに過ぎない。テクノロジー・センターが成熟期を迎えるには20年以上を要し、その段階で初めてインテル・フェローの候補者に名を連ねるエンジニアが輩出されるようになる。しかしIIDCの戦略的重要性に鑑み、直ちにフェローシップ・プログラムに着手する方針を決めたと言う。
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