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1997-12-17 ArtNo.13233
◆＜印度＞超ＬＳＩ製造設備オープン、外国投資家物色
【チャンディガル】セミコンダクター・コンプレックスLtd(SCL)の超大規模集積回路(VLSI)製造施設が今日(12/17)、グジュラル首相の立ち会いの下、パンジャブ州Mohaliに正式オープンする。
インド政府はマイクロエレクトロニクス領域における独自の技術を育成する上から1989年2月の火災で消失したＳＣＬのウエハー工場を再建する方針を決め、332.56クローの予算を組んだが、内270クローがこれまでに1.2ミクロン技術を用いた6インチ・ウエハー製造施設に投じられた。月産2000ウエハーの製造施設は、これ以前から試運転が行われていた。
ＳＣＬは0.6ミクロン技術を導入し、月間製造能力も8000ウエハーに拡大するアップグレード計画を既に立案、最終的に0.25ミクロン技術の導入を目指している。
ＳＣＬのM.J.Zarabi重役(CMD)によると、目下米国及び韓国企業と合弁交渉が進められており、パートナー次第では過半数権益を認める用意もある。
ＳＣＬは目下、0.8ミクロンＣＭＯＳ技術、1.2ミクロン高電圧処理、1.2ミクロン低電圧(1.5v)処理、ビジブル・スペクトラムＣＣＤ技術に取り組んでおり、0.8ミクロンＣＭＯＳ技術は1998年初までに確立すると言う。(ET:12/16)
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